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在氧化染色整個流程中，因為氧化工藝原因造成染色不良是比較普遍（biàn）的。氧（yǎng）化膜的膜（mó）厚和孔隙均勻一（yī）致（zhì）是染色時獲得均勻一致顏色的前提和基礎（chǔ），為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環量，冷卻量（liàng），保證良好的導電性是舉足輕重的，此外就（jiù）是氧（yǎng）化工藝的穩定性。氧化（huà）溫度，控製在20℃左右，氧化槽液的溫度對（duì）染（rǎn）色的影響非常顯著，過低的溫度致使氧化膜的（de）膜孔（kǒng）致密，染色速（sù）度顯著減緩；溫（wēn）度過高，氧化膜蔬鬆（sōng），容易粉化，不利於染色的控製，氧化槽的溫差變化應在2℃以內為宜。硫酸濃度，控製在180—200g／l。稍高（gāo）的硫酸濃度可促（cù）進氧化膜的溶解反應加快，利於孔隙（xì）的擴張，更易於染色；鋁離子濃度，控製在5—15 g／l。鋁離子小於5g／l，生（shēng）成的氧化膜吸附能力（lì）降低，影響上色速度，鋁離子（zǐ）大於15g／l時，氧化膜的均勻性受到影響，容易出現不規則的膜層。
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