眾所（suǒ）周知（zhī），鋁型材陽極氧化膜是由大量垂直於（yú）金屬表麵的六邊形晶胞組成，每個（gè）晶胞中心有一個膜孔，並具有極強的吸附力，當氧化過的鋁製品浸入染料溶液中，染料分（fèn）子通過擴散作用進入氧化膜（mó）的膜孔中，同時（shí）與氧化膜形成難以分離的共（gòng）價鍵和離子鍵。這種鍵（jiàn）結合是可逆的，在一定條件下（xià）會發生解吸附作用。因此，染色之後（hòu），必須經過封孔處理，將染料固（gù）定在膜孔中，同進增加氧化（huà）膜的耐蝕、耐磨等性（xìng）能。

在氧化染色整個流程中，因為氧化工藝原因造成染色不良是比（bǐ）較普遍的（de）。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時獲（huò）得均勻一致顏色的前提和基礎，為獲（huò）得均勻一致（zhì）的氧化膜，保證足夠的循環量，冷卻量，保證良好的導電性（xìng）是舉足輕重的，此外就是氧化工藝的穩定性。

硫酸濃度，控製在180—200g／l。稍高的硫酸濃度可促進氧化膜的溶解反應（yīng）加快，利於孔隙的擴張，更易於染色（sè）；鋁離子濃度，控製在5—15 g／l。鋁離子（zǐ）小於5g／l，生成的氧化膜吸附能力降低，影響上色速度，鋁離子大於15g／l時，氧化膜的均勻性受到影響，容易出現不規則的膜層。

氧化溫度，控製（zhì）在20℃左右，氧（yǎng）化槽液的溫度對染色的（de）影響非常顯著，過低的溫度致使氧化膜（mó）的膜孔致密，染色速度（dù）顯（xiǎn）著減緩；溫度過高（gāo），氧化膜蔬鬆，容易粉（fěn）化，不利於染色的控製，氧化槽的溫（wēn）差變化應在2℃以內為宜。

電流密度，控製在120—180a／m2。電流密度過大，在膜厚一定的情況下，就要（yào）相應地（dì）縮短鋁製（zhì）品在槽中的電解時間，這樣（yàng），氧化膜（mó）在溶液中的（de）溶解減少，膜孔致（zhì）密，染色時間加長。同時，膜層容易粉化。

膜（mó）厚，染色要求氧化（huà）膜厚度一般在10µm以上衝溶液。膜厚過低，染色容易出現（xiàn）不均勻現象，同時在要求染深色顏色(如黑色)時，因為膜厚不夠，導致染料的沉積量有限，無法達到要求的顏色深度。

總而（ér）言之，陽極氧化作為染色的前工序，是染色的基礎。陽極氧化（huà）的問題在染色之前，我們（men）很（hěn）難看到或者（zhě）根本無法看到，一旦染上色之後，我們會清晰地看到諸如顏色不均勻的現象。而（ér）此時，生產工作（zuò）者往往會把問題的原因歸於染色的不正常，而忽略在氧（yǎng）化工藝上尋找原因。我在剛接（jiē）觸氧化染色時就常犯這些錯誤。